(全球TMT2022年6月14日讯)6月14日-7月12日,2022年中国国际半导体技术大会(CSTIC2022)将以云分享的方式在线上举办。本届会议将有九场专题讨论会,超400场专业演讲,4周网络会议延续与讲师的问答交流。内容涵盖IC设计、器件与集成、光刻、刻蚀、CMP、封装测试、化合物半导体等各项前沿技术。通过线上分享的方式,探讨未来技术发展趋势。安集科技积极投身CSTIC2022会议讨论,持续在世界半导体发展浪潮中展现自身的优势。
自成立之初,安集科技就将自己定位为高端半导体材料领域的一站式合作伙伴,率先选择技术难度高、研发难度大的化学机械抛光液和光刻胶去除剂,并持续专注投入,已成功打破了国外厂商的垄断并已成为众多半导体行业领先客户的主流供应商。近年来,公司28nm技术节点HKMG工艺的铝抛光液已取得重大突破。形成了铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺七大产品平台,为客户提供最优的一站式解决方案。